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热场发射扫描电子显微镜分析(F250/F430)

  • 型 号THS-115
  • 库存状态有现货
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主要应用和分析样例

1)     样例

 

2)     样例


主要用于观察、分析和记录材料的微观形貌,通过配备能谱仪。EBSD等进行材料组成与结构分析:

1)     具有高真空和低真空(<200Pa)两种模式

2)     EDAX公司能谱与电子背散射衍射(EBSD)一体化系统

3)     喷金喷碳一体化

 

适用领域 

1)     广泛地应用于各种金属材料和非金属材料的检验和研究

2)     在材料科学研究、金属材料、化学材料、半导体材料、陶瓷材料等多个领域可以进行材料的微观形貌、组织、成分分析,材料断口分析和失效分析;各种材料的形貌组织观察

3)     材料实时微区成分分析;快速的多元素面扫描和线扫描分布测量

4)     晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量;元素定量、定性成分分析

5)     晶体、晶粒的相鉴定


面向学科

化学、化工、高分子、材料、环境、生物、医学、药学、农学、地质、食品、生命科学等


样品要求

1)     请根据自己样品的性质及测试需求,自行查阅相关资料后,提供详细的测试条件(电压、电流、信号、放大倍数、标尺、理想的照片等)

2)     样品量不少于3 mg

3)     可以接受固体、粉末、薄膜或纤维样品

4)     潮湿的样品不能测试

5)     有机的样品需要具体沟通

 

收费标准      

1)     形貌观察(无磁性、10万倍以下)                    120/

2)     形貌观察(磁性样、5万倍以下)                      200/

3)     EDS能谱  (随形貌2个区域)                           80/

4)     单独EDS能谱(无磁性)                                  120/

5)     单独EDS能谱(磁性样)                                  200/

6)     Mapping(无磁性1个区域)                                300/

7)     Mapping(磁性1个区域)                                    400/


 分析仪器

仪器名称:热场发射扫描电镜显微镜

仪器型号:QUANTA250/QUANTA430

仪器缩写: FE-SEM

生产厂家:美国FEI公司


仪器技术参数

1)     分辨率 二次电子(SE)像

2)     高真空模式 1.0nm @ 15kV ;1.6nm @ 1kV

3)     低真空模式  1.8nm @ 30kV

4)     放大倍率:351 000 000倍,根据加速电压和工作距离的改变,放大倍数自动校准

5)     加速电压:0.2 - 30kV 着陆电压:0.05-30kV

6)     样品室:样品室左右直径为284mm,可安装EDSEBSD附件

7)     样品台:同心样品台,五轴自动移动最大范围指标:X=Y=100mm,z=60mm

8)     连续旋转:R=360°

9)     倾斜角T:范围-5°~70°

10)   探测器:二次电子:E-T二次电子检测器,TLD二次电子检测器,LVD低真空二次电子探测器

11)   背散射电子:固体背散射电子检测器,TLD背散射电子检测器,样品室IR-CCD相机